第369章 技术大突破（1/4第四卷开启求支持）（3 / 4）

始进入量产阶段。现在市面上，DDR2才刚刚普及，各种厂商才提出自己的DDR3解决方案，连DDR3的标准都没发布。

而专门适用于智能手机这样移动计算设备的低电压LPDDR，它的第一代标准本也得到2009年才拿出来。

怪不得廖青山都走不动道了。

“……这个二期厂房？”廖青山不确定地问道。

顾松笑着：“等咱们自己的浸润光刻机进来，直接生产内存。”

廖青山愣了几秒才开始迈腿喃喃道：“牛逼了。”

顾松又拍拍他的肩膀：“过完年一起跟我去ISSCC震震他们。”

廖青山舔了舔嘴唇，好刺激的样子。他着急地问道：“流片呢？”

“倪院士那边会联系你的。这个流片就直接等3月份专项科研基金项目验收完，运抵这边之后用咱们的浸润光刻机来做。”

“这……这可太牛逼了……”廖青山没想到从湾积电到这边来才三年，现在都可以立刻玩玩浸润光刻机了。

他一边走一边问：“咱这机器，和XT1700i相比怎么样？”

现在，ASML的第一代浸润光刻机是做出来了的，刚刚才发布。双工作台，1.2的数字孔径，可以在45纳米制程下每时加工寸晶圆。

顾松笑道：“就看你能玩得这么样了。参数上，比XT1700i是差那么一些。不过新玩意，大家都有一个上手的过程，你的优势在于有最好的技术支持！”

廖青山请顾松坐到办公室的沙发上，一边倒着热水一边问道：“65纳米？每时可以加工多少片？”

顾松叹气：“制程这一块也是能做45纳米量产，就是尖端机床也才出来，工艺水平得要一段时间才能赶上。虽然也是个双工作台，但一时能加工的12寸晶圆，只能达到70多片的水平吧。”

“已经很牛逼了，已经很牛逼了。”廖青山端水过来的手都有点抖。

顾松赶紧接过来，喝了一口觉得暖和多了。

这真是三年磨一机啊。沪海微电子装备集全国相关单位之力，用了一年半时间才完成一套浸润式光刻魔改方案，在和舰科技那边试验成功。又用了一年半时间，才把这一台浸润式光刻样机搞出来。

这还是有顾松全程帮着做攻关的情况下。

而尖端机床也一样，四大机床厂，汇聚了最顶尖的力量，才弄出一台“尖端”机床。

仍然后现在世界顶尖水平有