第211章 国产芯片的难处（2 / 3）

是为了达成最终的合作吗？

只不过，这个过程肯定是有一定曲折的，俗话说，好事多磨嘛。

你们陈总，也没受啥委屈，刚不还和我那张哥据理力争嘛，硬气的很。

但是，和何兰的光刻机引进，我真的是求爷爷告奶奶了，结果，屁用没有。”

陈楚默听到孟寻吐了句脏话，也是摇头失笑道，能把这么一个儒雅的中年人，逼到这份上。

看来光刻机的问题确实让其很头疼。

“孟兄，你说的对，确实不一样，我们都是华夏企业，虽然有不同的利益诉求，但是本质上是血浓于水的。

打断了筋也连着骨头的！

你说呢？”

孟寻怔了一下，没想到陈楚默

下面先别看，还在码

asmL为半导体生产商提供光刻机及相关服务，TwInscan系列是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商，都向asmL采购TwInscan机型，比如英特尔（Intel）、三星（samsung）、海力士（hynix）、台积电（Tsmc）、中芯国际（smIc）等。

asmL的产品线分为Pas系列、aT系列、XT系列和nXT系列，其中Pas系列光源为高压汞灯光源，现已停产；aT系列属于老型号，多数已经停产。市场上的主力机种是XT系列以及nXT系列，为arF和KrF激光光源，XT系列是成熟的机型，分为干式和沉浸式两种，而nXT系列则是现在主推的高端机型，全部为沉浸式。

TwInscan系列

TwInscan系列

目前已经商用的最先进机型是Twinscan nXT 1950i，属于沉浸式光刻机，用来生产关键尺度低于38纳米的集成电路。

asmL正在加紧研制基于极紫外（euV）光源的新型光刻机，型号定为nXe系列。如果量产成功，将成为划时代的产品，有望将关键尺寸缩小至10nm以下，并且可以显著提高集成电路质量。

除了目前致力于开发的TwInscan平台外，asmL还在积极与Imec， IBm等半导体公司合作，开发下一代光刻技术，比如euV（极紫外线光刻），用于关键尺度在22纳米甚至更低的集成电路制造。目前asmL已经向客户递交若干台euV机型，用于研发和实验。同时，基于传统TwInsca